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晶園先進的解決方案、洗滌**晶園表面的臟污及

各種金屬離子拓展、成膜

在高溫擴散爐中，形成宣講活動、表面氧化膜

電路圖案設計不斷進步、運用CAD制作布局、布線

設計圖豐富內涵。制作光掩膜

將電路圖案沖印到中間掩生產效率、模上(原版照片)

光刻膠涂布產能提升、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶

圓表面，形成厚度均一的薄膜節點。

旋轉涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合通過活化，復制電路

圖案。

光刻機(P13~P15)

可選組件

顯影支撐作用、去除曝光部位(正膠)的光刻膠研學體驗。

顯影裝置(P17. 18)、蝕刻

通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路最為突出。

蝕刻裝置(P19)

離子注入/濺射

向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密閉型)

●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機
MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合相結合，復制電路圖案高效化。
日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉涂布機MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉涂膜儀

去除曝光部位(正膠)的光刻膠為產業發展。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置

●ED-1200

●ED-3000

日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布範圍和領域、曝光、顯影各項要求、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后更高要求，提供一站式服務。另外新技術，為旋轉涂膜儀的所有機型準備了替代用機共同學習，可在發(fā)生故障時盡早應對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務深入。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題效高，也可在現(xiàn)場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現(xiàn)了問題基礎、應如何改進等等性能，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個可在半導體方面進行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設備對外開放，而是為客戶半導體制造的整體工藝流程技術創新。將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜資料。

日本Mikasa為半導體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布廣泛應用、曝光、顯影配套設備、蝕刻等半導體制造前段工序所需要的裝置后更優質，晶圓涂抹提供一站式服務。

日本Mikasa 半導體用設備 旋涂機

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200

代 理日本各類工業(yè)品：SSD推進高水平，東日技研脫穎而出，TRINC高柳特林科拓展應用，SIMCO，KIKUSUI菊水結構，TSUBAKI椿本管理，SHOWA DENKI昭和電機，MALCOM馬康 ,TML東京測器,TOE東京光電子能力建設，TRUSCO模樣，HIOS，HOZAN服務，METCAL很重要，HAKKO，淀川電機覆蓋，USHIO異常狀況，CCS，三英高效，MUSASHI武藏應用創新，MEISEI，OPTEX機構，東機產(chǎn)業(yè)的特性，高砂，IMRO基礎，KITO提供堅實支撐，TOMIX，KURABO經過，MORITEX等日本SAN-EI TECH三英簡單化，MUSASHI武藏點膠機，Nordson諾信EFD明確了方向，IEI巖下系統性，aicohsha愛工舍ACM（特殊立式攪拌機），KLEENTEK可濾特改進措施，ASAHIKASEI旭化成就此掀開，TAGAWA十川工業(yè)軟管，YODOGAWA淀川電機今年，MALCOM馬康穩步前行，USHIO牛尾點光源，SHOWA DENKI昭和電機動手能力，TSUBAKI椿本鏈條逐步改善，morite茉 莉特鏡頭，KIKUSUI菊水電源提升，HOZAN寶山大大提高，TRUSCO中山的必然要求，cedar思達，MEISEI邁澤（電熱剝線器）取得了一定進展、SANKO山高（金屬探測器完善好、膜厚儀）、TAKASAGO高砂制作所（直流電源）MITSUBISHI三菱 （UPS電源積極參與、PLC自動化）問題分析、CCS光源（視覺光源、檢查光源）交流研討、Tsubosaka壺坂（燈箱更加完善、光度計、輝度箱相對較高、光源）資源配置、POLARION普拉瑞（探照燈、HID強光燈相關、檢查燈）AITEC艾泰克（檢查光源）、Iwasaki巖崎（金鹵燈豐富內涵、HID燈生產效率、UV燈）、OTSUKA大塚電子（光學膜厚儀適應性、相位差測試儀節點、粒度儀）、KOSAKA小坂臺階儀落地生根、HORIBA堀場儀器的特點、cosmo科斯莫、MITAKA三鷹光器開展面對面、SIBATA柴田科學系統、RIKEN 理研、TORAY東麗濃度儀進一步提升、RION理音空間廣闊、ACCRETECH東精精密、HOKUTO DENKO北斗電工改革創新、SANYOSEIKO山陽精工知識和技能、日本IMV愛睦威地震儀、TML東京測器新模式、TOE東京光電子實現、GRAPHTEC圖技、SIGMAKOKI西格瑪光機組織了、FLOWELL 福威服務體系、ASAHI旭有機材說服力、LUCEO魯西歐（表面應力儀、偏光應力儀）問題、KYOWA共和（應變片逐漸顯現、壓力傳感器）、ONOSOKKI小野測器（傳感器系統穩定性、檢測儀）CKD（氣動元件拓展基地、電缸）、FUJIKURA藤倉（單向閥實力增強、泄壓閥體系流動性、摩擦氣缸）TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)（粘度計）、ASKER高分子計器（橡膠硬度計帶來全新智能、試驗機）SK新瀉精機（水平尺實現了超越、水平測量儀器）SKSATO佐藤（溫度計、溫度記錄儀）去完善、上海一恒儀器 （恒溫箱橋梁作用、烘箱、）求索、TECLOCK得樂（硬度計讓人糾結、千分表）、AND愛安得（電子天平穩定發展、工業(yè)天平）至關重要、KEM京都電子（水分儀、自動電位滴定儀）服務品質、TOHNICHI東日（扭力扳手的發生、螺絲刀）KANON中村（電動螺絲刀、扭力工具）影響、Heishin兵神（泵新的動力、點膠機）、KOKUSAN科庫森離心機指導、TOKKYOKIKI特許機器抗震臺廣泛認同、ULVAC愛發(fā)科泵、IWAKI易威奇（泵）流動性、kashiyama柏山（泵）鍛造、MARUYAMA丸山（泵）、日本Yamato雅瑪拓持續創新、AMAYA天谷制作所改善、YUASA湯淺（柔性屏彎折試驗機）、SIMCO思美高協調機製，SSD西西蒂信息化，DIT東日技研形勢，KASUGA春日，TRINC高柳（靜電儀器設備）取得明顯成效、Kanetec強 力（磁力設備約定管轄、高斯計）、ASONE亞速旺（實驗室儀器創新的技術、車間穿戴裝備）發揮、SAKURAI櫻井（無塵紙、熱敏紙）快速增長、Nitto-Kohki日東工器（快速接頭）開放以來、NIRECO 尼利可（電動執(zhí)行器、傳感器）高質量、TOFCO東富科  （流量計）提供了有力支撐、eoptics頤光科技（反射膜厚儀）、Filmetrics優(yōu)尼康（膜厚測量儀）前景、TOKYO KEISO東京計裝（超聲波液位計進一步意見、超聲波流量計）、RKC理化工業(yè)（數(shù)字顯示控制器落到實處、溫度傳感器）等多個領域、YAMATO雅瑪拓（恒溫箱、噴霧干燥器）產品和服務、YAMADA雅瑪達（隔膜泵、往復泵）體驗區、KOFLOC小島（質量流量控制器增多、浮子流量計、控制閥）有望、KITZ開滋（閥門）進一步推進、CKD喜開理（氣缸、氣缸開關）方案、AMANO安滿能（集塵器應用的選擇、空氣凈化器、工業(yè)清掃機）左右、NYS株式會社西村化工（半導體背景下、FPD、 電子部件）可靠保障、MARUYAMA丸山（柱塞泵自然條件、高壓水泵）

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