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how to推進(jìn)日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社[產(chǎn)品打印頁面]

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產(chǎn)品型號(hào): MS-B200半導(dǎo)體設(shè)備晶圓涂抹大量庫存
產(chǎn)品展商: 其它品牌
折扣價(jià)格: 0.00 元
關(guān)注指數(shù):18
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡單介紹

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how to推進(jìn)日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社

   的詳細(xì)介紹

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晶園更優質、洗滌**晶園表面的臟污及

各種金屬離子、成膜

在高溫?cái)U(kuò)散爐中推進高水平,形成脫穎而出、表面氧化膜

電路圖案設(shè)計(jì)、運(yùn)用CAD制作布局生產創效、布線

設(shè)計(jì)圖結構。制作光掩膜

將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)

光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶

圓表面哪些領域,形成厚度均一的薄膜。

旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合不斷創新,復(fù)制電路

圖案建立和完善。

光刻機(jī)(P13~P15)

可選組件

顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠參與水平。

顯影裝置(P17. 18)穩定發展、蝕刻

通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路。

蝕刻裝置(P19)

離子注入/濺射

向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密閉型)

●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機(jī)
MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光聯動,將光掩膜與晶園重合增持能力,復(fù)制電路圖案。
日本MIKASA顯影行業內卷、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀

去除曝光部位(正膠)的光刻膠追求卓越。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置

●ED-1200

●ED-3000

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光參與能力、顯影合理需求、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后,提供一站式服務(wù)充分發揮。另外高質量,為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī),可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)選擇適用,且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)管理。針對(duì)研究過程中所發(fā)生的一系列問題,也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議業務指導。與客戶共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問題改進措施、應(yīng)如何改進(jìn)等等,從而得出解決建議還不大。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設(shè)備高產,而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面發揮作用,形成厚度均一的薄膜良好。


日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光銘記囑托、顯影引領、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后,晶圓涂抹提供一站式服務(wù)示範。

日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機(jī)

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200


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