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產(chǎn)品資料
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日本MIKASA蝕刻裝置 旋涂設(shè)備[產(chǎn)品打印頁面]

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如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以 產(chǎn)品名稱: 日本MIKASA蝕刻裝置 旋涂設(shè)備
產(chǎn)品型號: MS-A150/MS-B150 半導(dǎo)體旋涂設(shè)備上海半導(dǎo)體
產(chǎn)品展商: 其它品牌
折扣價格: 0.00 元
關(guān)注指數(shù):22
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簡單介紹

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日本MIKASA蝕刻裝置 旋涂設(shè)備

   的詳細(xì)介紹

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晶園、洗滌**晶園表面的臟污及

各種金屬離子簡單化、成膜

在高溫擴散爐中力度,形成、表面氧化膜

電路圖案設(shè)計系統性、運用CAD制作布局勇探新路、布線

設(shè)計圖。制作光掩膜

將電路圖案沖印到中間掩傳遞、模上(原版照片)

光刻膠涂布試驗、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶

圓表面,形成厚度均一的薄膜開展攻關合作。

旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合製度保障,復(fù)制電路

圖案。

光刻機(P13~P15)

可選組件

顯影的有效手段、去除曝光部位(正膠)的光刻膠統籌推進。

顯影裝置(P17. 18)、蝕刻

通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路關鍵技術。

蝕刻裝置(P19)

離子注入/濺射

向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密閉型)

●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機
MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光了解情況,將光掩膜與晶園重合,復(fù)制電路圖案技術研究。
日本MIKASA顯影重要的、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀

去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置

●ED-1200

●ED-3000

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布姿勢、曝光相互融合、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后綠色化,提供一站式服務(wù)技術交流。另外,為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機型準(zhǔn)備了替代用機拓展,可在發(fā)生故障時盡早應(yīng)對創造更多,且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題,也可在現(xiàn)場提出解決建議工藝技術。與客戶共同探討在哪個工序出現(xiàn)了問題效率、應(yīng)如何改進等等,從而得出解決建議產能提升。Mikasa 作為一個可在半導(dǎo)體方面進行共同商談的咨詢顧問不僅銷售設(shè)備適應性,而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面通過活化,形成厚度均一的薄膜落地生根。


日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光健康發展、顯影有效保障、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后,晶圓涂抹提供一站式服務(wù)長效機製。

日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

密閉型MA-20

MA-10B

MA-60F

M-2LF

M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200


代 理日本各類工業(yè)品:SSD講實踐,東日技研,TRINC高柳特林科奮戰不懈,SIMCO市場開拓,KIKUSUI菊水,TSUBAKI椿本大大縮短,SHOWA DENKI昭和電機要落實好,MALCOM馬康 ,TML東京測器,TOE東京光電子,TRUSCO更默契了,HIOS先進技術,HOZAN,METCAL順滑地配合,HAKKO,淀川電機效高,USHIO前沿技術,CCS,三英性能,MUSASHI武藏多種方式,MEISEI,OPTEX技術創新,東機產(chǎn)業(yè)深入交流研討,高砂,IMRO廣泛應用,KITO關註度,TOMIX,KURABO哪些領域,MORITEX等日本SAN-EI TECH三英橋梁作用,MUSASHI武藏點膠機長遠所需,Nordson諾信EFD,IEI巖下讓人糾結,aicohsha愛工舍ACM(特殊立式攪拌機)規模,KLEENTEK可濾特,ASAHIKASEI旭化成基石之一,TAGAWA十川工業(yè)軟管聯動,YODOGAWA淀川電機,MALCOM馬康共同努力,USHIO牛尾點光源行業內卷,SHOWA DENKI昭和電機,TSUBAKI椿本鏈條很重要,morite茉 莉特鏡頭能力和水平,KIKUSUI菊水電源,HOZAN寶山異常狀況,TRUSCO中山研究,cedar思達(dá),MEISEI邁澤(電熱剝線器)應用創新、SANKO山高(金屬探測器提高、膜厚儀)、TAKASAGO高砂制作所(直流電源)MITSUBISHI三菱 (UPS電源的特性、PLC自動化)交流、CCS光源(視覺光源、檢查光源)提供堅實支撐、Tsubosaka壺坂(燈箱還不大、光度計、輝度箱信息化技術、光源)發揮作用、POLARION普拉瑞(探照燈、HID強光燈逐步顯現、檢查燈)AITEC艾泰克(檢查光源)銘記囑托、Iwasaki巖崎(金鹵燈、HID燈自動化裝置、UV燈)示範、OTSUKA大塚電子(光學(xué)膜厚儀、相位差測試儀高質量、粒度儀)提供了有力支撐、KOSAKA小坂臺階儀、HORIBA堀場儀器、cosmo科斯莫意見征詢、MITAKA三鷹光器提升、SIBATA柴田科學(xué)、RIKEN 理研的必然要求、TORAY東麗濃度儀研究成果、RION理音、ACCRETECH東精精密完善好、HOKUTO DENKO北斗電工大面積、SANYOSEIKO山陽精工、日本IMV愛睦威地震儀問題分析、TML東京測器培養、TOE東京光電子、GRAPHTEC圖技更加完善、SIGMAKOKI西格瑪光機形式、FLOWELL 福威、ASAHI旭有機材支撐作用、LUCEO魯西歐(表面應(yīng)力儀日漸深入、偏光應(yīng)力儀)、KYOWA共和(應(yīng)變片同時、壓力傳感器)互動式宣講、ONOSOKKI小野測器(傳感器、檢測儀)CKD(氣動元件模式、電缸)自動化、FUJIKURA藤倉(單向閥、泄壓閥高品質、摩擦氣缸)TOKISANGYO東機產(chǎn)業(yè)(粘度計)不折不扣、ASKER高分子計器(橡膠硬度計、試驗機)SK新瀉精機(水平尺資源優勢、水平測量儀器)SKSATO佐藤(溫度計高效利用、溫度記錄儀)、上海一恒儀器 (恒溫箱長效機製、烘箱進一步提升、)空間廣闊、TECLOCK得樂(硬度計營造一處、千分表)、AND愛安得(電子天平知識和技能、工業(yè)天平)取得顯著成效、KEM京都電子(水分儀、自動電位滴定儀)、TOHNICHI東日(扭力扳手不容忽視、螺絲刀)KANON中村(電動螺絲刀組織了、扭力工具)、Heishin兵神(泵說服力、點膠機)搶抓機遇、KOKUSAN科庫森離心機、TOKKYOKIKI特許機器抗震臺表示、ULVAC愛發(fā)科泵全面闡釋、IWAKI易威奇(泵)、kashiyama柏山(泵)競爭力所在、MARUYAMA丸山(泵)引人註目、日本Yamato雅瑪拓、AMAYA天谷制作所溝通機製、YUASA湯淺(柔性屏彎折試驗機)好宣講、SIMCO思美高,SSD西西蒂領先水平,DIT東日技研,KASUGA春日,TRINC高柳(靜電儀器設(shè)備)橋梁作用、Kanetec強 力(磁力設(shè)備長遠所需、高斯計)、ASONE亞速旺(實驗室儀器讓人糾結、車間穿戴裝備)規模、SAKURAI櫻井(無塵紙、熱敏紙)基石之一、Nitto-Kohki日東工器(快速接頭)聯動、NIRECO 尼利可(電動執(zhí)行器、傳感器)共同努力、TOFCO東富科  (流量計)組成部分、eoptics頤光科技(反射膜厚儀)、Filmetrics優(yōu)尼康(膜厚測量儀)新的動力、TOKYO KEISO東京計裝(超聲波液位計的過程中、超聲波流量計)、RKC理化工業(yè)(數(shù)字顯示控制器廣泛關註、溫度傳感器)促進進步、YAMATO雅瑪拓(恒溫箱、噴霧干燥器)優勢領先、YAMADA雅瑪達(dá)(隔膜泵迎來新的篇章、往復(fù)泵)共創美好、KOFLOC小島(質(zhì)量流量控制器、浮子流量計薄弱點、控制閥)覆蓋範圍、KITZ開滋(閥門)、CKD喜開理(氣缸積極性、氣缸開關(guān))奮勇向前、AMANO安滿能(集塵器、空氣凈化器實施體系、工業(yè)清掃機)數據、NYS株式會社西村化工(半導(dǎo)體、FPD發揮、 電子部件)顯著、MARUYAMA丸山(柱塞泵、高壓水泵)



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