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日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社 日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗鈽機(jī)不可缺少，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗怖機(jī)保護好，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗鈽機(jī)說服力，真空泵 半導(dǎo)體制造工序中的Mikasa半導(dǎo)體設(shè)備
晶園共創美好、洗滌**晶園表面的臟污及
各種金屬離子新品技、成膜
在高溫?cái)U(kuò)散爐中有望，形成進一步推進、表面氧化膜
電路圖案設(shè)計(jì)、運(yùn)用CAD制作布局方案、布線(xiàn)
設(shè)計(jì)圖應用的選擇。制作光掩膜
將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)
光刻膠涂布左右、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶
圓表面背景下，形成厚度均一的薄膜。
旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合可靠保障，復(fù)制電路
圖案自然條件。
光刻機(jī)(P13~P15)
可選組件
顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠開展。
顯影裝置(P17. 18)互動互補、蝕刻
通過(guò)腐蝕氧化膜來(lái)蝕刻電路。
蝕刻裝置(P19)
離子注入/濺射
向晶園注入離子(混雜物)
滴液裝置可選組件 吸盤(pán)
●MS-B100/ MS-B150
●MS-B200
●MS-B300
●MS-B200 (密閉型)
●MS-B300 (密閉型)
日本MIKASA光刻機(jī)
MA-10
●MA-20
●MA-60F
●M-2LF
●M-1S
日本MIKASA曝光意向，將光掩膜與晶園重合意料之外，復(fù)制電路圖案。
日本MIKASA顯影形式、蝕刻裝置DeveloperEtching
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀
去除曝光部位(正膠)的光刻膠置之不顧。
●AD-1200
●AD-3000
●PD-1000
日本MIKASA蝕刻裝置
蝕刻裝置
●ED-1200
●ED-3000
日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光數字化、顯影方便、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)改革創新。另外知識和技能，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)取得顯著成效，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)新模式，且在銷(xiāo)售后提供快捷周到的售后服務(wù)實現。針對(duì)研究過(guò)程中所發(fā)生的一系列問(wèn)題，也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議提高。與客戶(hù)共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問(wèn)題可以使用、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議紮實。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢(xún)顧問(wèn)不僅銷(xiāo)售設(shè)備效高化，而是為客戶(hù)半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面投入力度，形成厚度均一的薄膜創造。
日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光貢獻法治、顯影設備製造、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務(wù)攻堅克難。
日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機(jī)
MS-B100
MS-B150
MS-B200
MS-B300
MS-B200
密閉型MS-B300
密閉型MA-20
MA-10B
MA-60F
M-2LF
M-1S
AD-1200
AD-3000
ED-1200
代 理日本各類(lèi)工業(yè)品：SSD管理，東日技研，TRINC高柳特林科雙向互動，SIMCO效率和安，KIKUSUI菊水，TSUBAKI椿本品牌，SHOWA DENKI昭和電機(jī)深入開展，MALCOM馬康 ,TML東京測(cè)器,TOE東京光電子，TRUSCO紮實做，HIOS空間廣闊，HOZAN，METCAL提供深度撮合服務，HAKKO服務品質，淀川電機(jī)，USHIO組成部分，CCS影響，三英，MUSASHI武藏的過程中，MEISEI發展契機，OPTEX，東機(jī)產(chǎn)業(yè)促進進步，高砂發力，IMRO，KITO達到，TOMIX智能設備，KURABO不可缺少，MORITEX等日本SAN-EI TECH三英，MUSASHI武藏點(diǎn)膠機(jī)特點，Nordson諾信EFD積極回應，IEI巖下，aicohsha愛(ài)工舍ACM（特殊立式攪拌機(jī)）又進了一步，KLEENTEK可濾特多種場景，ASAHIKASEI旭化成，TAGAWA十川工業(yè)軟管規劃，YODOGAWA淀川電機(jī)擴大公共數據，MALCOM馬康，USHIO牛尾點(diǎn)光源帶動擴大，SHOWA DENKI昭和電機(jī)更加堅強，TSUBAKI椿本鏈條，morite茉 莉特鏡頭性能，KIKUSUI菊水電源初步建立，HOZAN寶山，TRUSCO中山供給，cedar思達(dá)的方法，MEISEI邁澤（電熱剝線(xiàn)器）、SANKO山高（金屬探測(cè)器進行探討、膜厚儀）落到實處、TAKASAGO高砂制作所（直流電源）MITSUBISHI三菱 （UPS電源、PLC自動(dòng)化）最新、CCS光源（視覺(jué)光源技術創新、檢查光源）、Tsubosaka壺坂（燈箱重要作用、光度計(jì)持續向好、輝度箱、光源）充足、POLARION普拉瑞（探照燈進展情況、HID強(qiáng)光燈、檢查燈）AITEC艾泰克（檢查光源）綠色化發展、Iwasaki巖崎（金鹵燈至關重要、HID燈、UV燈）效果、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀使用、相位差測(cè)試儀、粒度儀）密度增加、KOSAKA小坂臺(tái)階儀有效性、HORIBA堀場(chǎng)儀器現場、cosmo科斯莫、MITAKA三鷹光器力量、SIBATA柴田科學(xué)、RIKEN 理研提單產、TORAY東麗濃度儀深入實施、RION理音、ACCRETECH東精精密發展空間、HOKUTO DENKO北斗電工效果、SANYOSEIKO山陽(yáng)精工、日本IMV愛(ài)睦威地震儀足了準備、TML東京測(cè)器合作關系、TOE東京光電子、GRAPHTEC圖技深刻內涵、SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)傳遞、FLOWELL 福威、ASAHI旭有機(jī)材深入闡釋、LUCEO魯西歐（表面應(yīng)力儀相關性、偏光應(yīng)力儀）、KYOWA共和（應(yīng)變片物聯與互聯、壓力傳感器）穩定、ONOSOKKI小野測(cè)器（傳感器、檢測(cè)儀）CKD（氣動(dòng)元件供給、電缸）優勢與挑戰、FUJIKURA藤倉(cāng)（單向閥、泄壓閥解決方案、摩擦氣缸）TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)（粘度計(jì)）趨勢、ASKER高分子計(jì)器（橡膠硬度計(jì)、試驗(yàn)機(jī)）SK新瀉精機(jī)（水平尺上高質量、水平測(cè)量?jī)x器）SKSATO佐藤（溫度計(jì)環境、溫度記錄儀）、上海一恒儀器 （恒溫箱高質量、烘箱相對簡便、）、TECLOCK得樂(lè)（硬度計(jì)流程、千分表）合作、AND愛(ài)安得（電子天平、工業(yè)天平）助力各業、KEM京都電子（水分儀極致用戶體驗、自動(dòng)電位滴定儀）提供有力支撐、TOHNICHI東日（扭力扳手、螺絲刀）KANON中村（電動(dòng)螺絲刀建議、扭力工具）品率、Heishin兵神（泵、點(diǎn)膠機(jī)）不斷發展、KOKUSAN科庫(kù)森離心機(jī)積極影響、TOKKYOKIKI特許機(jī)器抗震臺(tái)、ULVAC愛(ài)發(fā)科泵緊密協作、IWAKI易威奇（泵）越來越重要、kashiyama柏山（泵）、MARUYAMA丸山（泵）發揮重要作用、日本Yamato雅瑪拓醒悟、AMAYA天谷制作所、YUASA湯淺（柔性屏彎折試驗(yàn)機(jī)）高質量、SIMCO思美高也逐步提升，SSD西西蒂，DIT東日技研註入了新的力量，KASUGA春日不可缺少，TRINC高柳（靜電儀器設(shè)備）、Kanetec強(qiáng) 力（磁力設(shè)備特點、高斯計(jì)）積極回應、ASONE亞速旺（實(shí)驗(yàn)室儀器、車(chē)間穿戴裝備）又進了一步、SAKURAI櫻井（無(wú)塵紙多種場景、熱敏紙）、Nitto-Kohki日東工器（快速接頭）新的力量、NIRECO 尼利可（電動(dòng)執(zhí)行器先進水平、傳感器）、TOFCO東富科 （流量計(jì)）全面展示、eoptics頤光科技（反射膜厚儀）重要平臺、Filmetrics優(yōu)尼康（膜厚測(cè)量?jī)x）、TOKYO KEISO東京計(jì)裝（超聲波液位計(jì)核心技術、超聲波流量計(jì)）應用提升、RKC理化工業(yè)（數(shù)字顯示控制器、溫度傳感器）創造性、YAMATO雅瑪拓（恒溫箱發展的關鍵、噴霧干燥器）、YAMADA雅瑪達(dá)（隔膜泵、往復(fù)泵）真諦所在、KOFLOC小島（質(zhì)量流量控制器指導、浮子流量計(jì)、控制閥）充分、KITZ開(kāi)滋（閥門(mén)）進一步完善、CKD喜開(kāi)理（氣缸、氣缸開(kāi)關(guān)）競爭力、AMANO安滿(mǎn)能（集塵器調整推進、空氣凈化器、工業(yè)清掃機(jī)）兩個角度入手、NYS株式會(huì)社西村化工（半導(dǎo)體、FPD同期、 電子部件）生產效率、MARUYAMA丸山（柱塞泵、高壓水泵）
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